EUV光刻 - ‘’-半导体行业观察

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EUV光刻的技术突破" />

泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破

泛林集团与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。

半导体
2020.02.28
EUV光刻暂难当大任" />

给摩尔定律续命，EUV光刻暂难当大任

半导体行业观察：近年来，在半导体行业，极紫外光刻（Extreme Ultra-Violet，以下简称EUV光刻）成为备受众多企业关注的光刻技术之一。

半导体
2019.12.18
EUV光刻工艺" />

三星7nm LPP正式到来，全球首发EUV光刻工艺

根据之前的路线图，三星第一个使用EUV工艺的就是7nm LPP工艺，预定今年下半年量产。

半导体
2018.10.18

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: 半导体行业观察

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