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    ASML正在开发下一代EUV光刻机

    半导体行业观察:ASML的副总裁Anthony Yen日前表示,他们已经开始研发下一代光刻机。

    半导体
    2018.12.07
  • 首次引入EUV,台积电7nm+工艺明年Q2量产

    台积电持续冲刺先进制程,采用极紫外光(EUV)微影技术的首款7+纳米芯片已经完成设计定案

    半导体
    2018.10.08
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半导体行业观察
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