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半导体市场需求热络，ASML 2018 年首季营收优于预期
由于全球半导体市场表现依旧强劲，使得对于半导体生产设备的需求持续不减。因此，欧洲半导体设备大厂阿斯麦 （ASML） 在 18 日公布 2018 年第 1 季的财报时，成绩高于 3 个月前的预估值，也优于之前市场分析师的预估。
半导体2018.04.19 -
EUV缺陷为芯片前景蒙上阴影
半导体行业观察：极紫外光微影(EUV)技术据称将在5纳米(nm)节点时出现随机缺陷。根据研究人员指出，目前他们正采取一系列的技术来消除这些缺陷
半导体2018.04.10 -
[原创] EUV的新挑战
半导体行业观察：极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化——又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战。
半导体2018.03.23 -
EUV光刻机将用来生产10nm DRAM，2019年初量产
半导体行业观察：先前传出三星电子耍手段拓展晶圆代工市场，打算买断EUV(极紫外光)设备，让台积电(2330)买不到。
半导体2017.11.30 -
狠，三星想买断所有EUV机台 ！
韩媒BusinessKorea昨日报道，三星有意一口气买下10台单价为1 76亿美元的EUV。三星如果真的这样做，那就会提升其在7nm等先进工艺上的领先优
半导体2017.10.22 -
EUV光刻机未能大规模应用，主要是因为这个
在当前半导体制程已经微缩到10 纳米以下之际，大家都寄望借助极紫外光微影设备（EUV） 能协助制程向前发展，也使得摩尔定律（Moore& 39;s
半导体2017.10.19 -
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？
有所为，有所不为的策略选择，尤其是要迅速的加大技术轮子的力度，加强研发的进程，对于中国半导体业的发展是格外的迫不及待。-莫大康2017
半导体2017.08.28
EUV光刻机，ASML大挣特挣" />
EUV缺陷为芯片前景蒙上阴影" />
EUV的新挑战" />
EUV是实现7nm的唯一技术？" />
EUV光刻机将用来生产10nm DRAM，2019年初量产" />
EUV机台 ！" />
EUV光刻机未能大规模应用，主要是因为这个" />
EUV禁运怎么办？" />-
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