光刻机 - ‘’-半导体行业观察

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[原创] ASML与应用材料，究竟谁是第一？

半导体行业观察：本周，TIN调研公司主席Robert Castellano称，过去三年，EUV光刻机被几大芯片制造巨头（包括IDM和Foundry）抢破头，这使得光刻机巨头ASML出尽了风头。

半导体
2019.11.29
光刻机，晶圆厂军备竞赛开打" />

抢夺EUV光刻机，晶圆厂军备竞赛开打

半导体行业观察：日前，台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入EUV微影技术且成功量产入市后，南韩媒体报导，三星向半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）下订15台EUV设备

半导体
2019.10.22
光刻机将如何发展？" />

EUV光刻机将如何发展？

半导体行业观察：AI、5G应用推动芯片微缩化，要实现5nm、3nm等先进制程，意味着需要更新颖的技术支援以进行加工制造，半导体设备商遂陆续推出新一代方案。

半导体
2019.08.26
光刻机迎来新的机遇" />

上海发布新制造计划，国产光刻机迎来新的机遇

昨日，上海市经信委消息称。为贯彻落实党的十九大“加快建设制造强国，加快发展先进制造业，推动互联网、大数据、人工智能和实体经济深度融合”的战略部署，以及市委市政府“推动制造业高质量发展”的工作部署，

半导体
2019.07.17
光刻机" />

[原创] ASML有的可不止光刻机

根据Network题为“Sub 100nm光刻:市场分析与战略问题”的报道，ASML当前取得的成绩可以汇总为以下几点

半导体
2019.03.08
LithoVision 2019——半导体技术趋势及其对光刻的影响

3D NAND的位出货量现在已经超过了2D NAND。并且正在迅速成为NAND Flash存储器的主导形式。

半导体
2019.02.27
光刻机" />

从头了解光刻机

在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。

半导体
2018.12.09
国产超分辨光刻装备通过验收，可加工22纳米芯片

半导体行业观察：国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。

半导体
2018.11.30
ASML回应“不招中国人”流言！

ASML表示：这是个不实传言，ASML招人的时候一般不会有国籍限制，

半导体
2018.08.24
光刻机，你需要了解这10点" />

关于光刻机，你需要了解这10点

半导体行业观察：随着AI芯片、5G芯片、汽车电子、物联网等下游的兴起，全球半导体行业重回景气周期。

半导体
2018.07.21
半导体
1970.01.01
[原创] EUV真的准备好了么?

半导体行业观察：虽然芯片制造商希望能够尽快在7nm和5nm工艺中普及极紫外线光刻技术，也就是我们通常所说的EUV，但是，现实往往是残酷的！

半导体
2018.04.27
光刻机为什么那么难？" />

光刻机为什么那么难？

半导体行业观察：与发达国家相比，我国不少领域关键核心技术受制于人，亟待集中力量奋力攻关。

半导体
2018.04.20
EUV终于做好准备，即将进入晶圆厂

半导体行业观察：单台激光设备的占地面积大约在80平方米，其中激光系统占据了15～20平方米。

半导体
2018.03.20
光刻机欠火候：三星/台积电/GF 7nm EUV异常难产" />

ASML光刻机欠火候：三星/台积电/GF 7nm EUV异常难产

半导体行业观察：不久前，高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造，具体来说是7nm LPP，使用EUV（极紫外）技术。

半导体
2018.03.01
光刻机未能大规模应用，主要是因为这个" />

EUV光刻机未能大规模应用，主要是因为这个

在当前半导体制程已经微缩到10 纳米以下之际，大家都寄望借助极紫外光微影设备（EUV）能协助制程向前发展，也使得摩尔定律（Moore& 39;s

半导体
2017.10.19

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