ASML：最新光刻机可支持5nm制程工艺，很快进入中国市场

2018-09-17 14:01:27 来源: 半导体行业观察

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2018中国集成电路产业发展研讨会暨第二十一届中国集成电路制造年会9月13日-14日正在无锡召开。全球高端光刻机垄断霸主ASML亚太区技术营销协理郑国伟介绍，2018年下半年ASML已开始出货最先进的浸润式光刻机NXT:2000i，符合集成电路制造5nm制程工艺需求。ASML中国区总裁沈波在接受采访时表示，这台ASML最先进的设备也将很快在中国市场看到。

此前曾有消息称ASML受到限制没有把最好的机器设备销售给中国，对此，沈波表示，上述说法并非事实。ASML的EUV、NXT:1980等高端设备均已进入中国。目前ASML最新最先进的支撑7nm/5nm制程工艺的NXT:2000i也会很快在中国市场看到。

根据中银国际机械团队统计，2018年5月19日，长江存储订购的ASML193nm浸没式光刻机运抵武汉；5月21日，华力二期（华虹六厂）订购的193nm双极沉浸式光刻机NXT:1980Di已经进场。中芯国际也已向ASML购买一台EUV（极紫外线）光刻设备，预计2019年交付。这些设备价格十分高昂，单价在7000万美元至1.2亿美元。

据统计，2017年全球半导体光刻设备厂中，ASML以80%以上的市占率稳居龙头，其次是日本厂商尼康（Nikon)和佳能（Canon），而在高端EUV光刻机台方面，ASML几乎100%垄断供应。

“如果我们交不出EUV的话，摩尔定律就会从此停止”，ASML董事长Peter曾接受媒体采访时说。摩尔定律演进对设备厂商提出很大的技术研发挑战，巨额的研发投入已经不是一家公司能够负担。目前，英特尔、台积电、三星等ASML所服务的集成电路制造客户，已经成为ASML的股东，协助ASML研发。摩根大通最新报告表示，ASML已经确认1.5nm制程的发展性，可支撑摩尔定律延续至2030年。沈波指出，2018年ASML投入16亿欧元研发，占营收约15 %。

ASML总部位于荷兰，脱胎于飞利浦光刻设备研究组，1995年在纳斯达克上市。

责任编辑：Sophie

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